随着计算机芯片尺寸的不断缩小，如果没有相应软件的支持，客户就无法在10纳米或更小的线宽下制造芯片。因此，软件对ASML而言至关重要。我们的研发团队在编码中不断实践，为电子工业的核心——芯片制造系统的复杂问题提供创新的解决方案。可见，ASML光刻机实际上是一个高科技硬件与先进软件的综合体。

嵌入式软件

ASML的所有光刻系统都使用了嵌入式软件来操作和控制机器。经过30年的发展， ASML的嵌入式软件代码库已经拥有了百万行的软件代码。我们越来越多地通过模型驱动工程（MDE）这一行业领先技术来改进代码，从而为业务提供竞争优势，让客户对ASML提供的机器始终充满信心。

光刻机量测软件

此类软件能够协调ASML光刻系统内强大的机电模块（晶圆/掩模版扫描平台）的运动。光刻系统必须快速定位晶圆，并达到纳米级的精度。

我们的光刻机量测软件帮助测量和补偿生产过程中由于材料缺陷、温度波动或大气压力变化而不可避免地出现的亚纳米级的误差。它能够计算出硬件应该采取的补偿操作以纠正这些误差，并协调多个组件以最大限度地提高系统的整体性能。

应用软件

ASML的应用软件能够帮助客户优化生产。它本质上是我们的 “非机器 “软件，用于系统校准、诊断、评估和自动化，帮助客户与他们的系统交互。

ASML的应用软件上的用户界面变得越来越重要，得益于数字化的不断发展，它能够为越来越多的需要使用应用软件的人提供无缝的用户体验。

计算光刻软件

计算光刻软件是半导体行业中一个相对较新的领域。它是一种用于重构掩模图形的技术，因为当分辨率缩小到纳米量级时，投影到硅片上的图形结构会变形。

ASML在计算光刻方面的聚焦于开发能准确预测芯片图形转移过程的模型。然而，当今的先进芯片有数十亿的晶体管，由此产生的仿真模型的计算量很快就会变得非常庞大。因此，ASML的计算光刻软件也找到了巧妙的方法来简化模型。

整合机器学习

ASML的软件团队多年来一直在开发机器学习工具，从而极大地加快仿真和制造过程。

用于开发严苛的物理模型和机器学习模型的方法非常相似，两者都需要大量的实验结果和数据来形成预测。但机器学习可以节省大量的时间和精力，同时提高准确性和一致性。

机器学习也提供了一个机会，可以更充分地利用制造环境中产生的大量数据来加强制程控制。

与大数据共生

ASML的数据科学家在工作中处理的数据非常特殊——极端复杂且数据量超大。他们需要以创新的方法利用不同的数据源，并产生可执行的关键方法。这类关键方法可以创造新的产品，或改善整个公司现有产品和服务的能力、性能和效率。

例如，ASML的量测系统会产生太字节(TB)量级的数据，而提取、管理和分析如此巨大的数据量以优化机器，是软件开发团队面临的一个重大挑战。

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ASML的每台光刻机都装有数百个传感器，这些传感器监测系统内发生的一切：从测量晶圆的表面形貌和温度到验证掩模的定位和检查透镜的局部热效应。一个光刻系统每周可从这些传感器中采集31太字节(TB)的数据——这比哈勃太空望远镜一年收集的数据还多了三倍。?

快速反馈回路

数据只有在你能基于它采取行动时才是有用的。这就是为什么ASML的光刻系统有数以千计的驱动装置，可以细微地调整工件台、掩模台、镜头系统和照明模组中的关键元件。这使得系统的参数配置可以根据需要进行精确的调整。

光刻系统内数据和驱动装置之间的联系是自动的。除此之外，ASML还开发了强大的软件工具，可以分析来自光学量测和电子束检测的数据，以鉴别制造流程中的变异。有了这些知识，ASML能够为光刻系统计算出最佳的参数配置，以确保制造过程产生最优结果。

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